HMDS涂膠系統(tǒng)，HMDS涂膠烤箱簡(jiǎn)介

   HMDS預(yù)處理系統(tǒng)通過(guò)對(duì)烘箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。適用于硅片、液晶面板、顯示器、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料預(yù)處理及相關(guān)行業(yè)。

HMDS蒸鍍機(jī)特點(diǎn)

Ø 預(yù)處理性能更好：

Ø 處理更加均勻：

Ø 效率高：

Ø 更加節(jié)省藥液：

Ø 更加環(huán)保和安全：

Ø HMDS藥液低液位報(bào)警：

Ø 自動(dòng)吸取HMDS：

Ø 可自動(dòng)添加HMDS：

Ø HMDS藥液泄漏報(bào)警：

Ø HMDS氣體管路加熱系統(tǒng)：

Ø 參數(shù)記錄功能：

Ø 溫度與程序互鎖功能：

HMDS涂膠系統(tǒng)，HMDS涂膠烤箱必要性

   HMDS蒸鍍就是利用惰性氣體（例如氮?dú)猓е鳫MDS的蒸汽通過(guò)芯片表面，而在芯片表面形成一層薄膜。其目的在于：A.消除芯片表面的微量水分。B.防止空氣中的水汽再次吸附于晶面C.增加光阻劑（尤其是正光阻）對(duì)于晶面的附著能力，進(jìn)而減少在此后之顯影過(guò)程中產(chǎn)生掀起，或是在蝕刻時(shí)產(chǎn)生了“Undercutting”的現(xiàn)象。目前在規(guī)范中規(guī)定于HMDS蒸鍍完4小時(shí)內(nèi)需上光阻以確保其功能。

   將HMDS涂到半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。

HMDS預(yù)處理系統(tǒng)，HMDS蒸鍍機(jī)技術(shù)參數(shù)

Ø 材質(zhì)：外箱采用不銹鋼或優(yōu)質(zhì)冷軋板噴塑，內(nèi)箱采用316L醫(yī)用級(jí)不銹鋼

Ø 溫度范圍：RT+10-250℃

Ø 溫度分辨率：0.1℃

Ø 溫度波動(dòng)度：≤±0.5

Ø 真空度：≤133pa（1torr）

Ø 潔凈度：class 100，設(shè)備采用無(wú)塵材料，適用100級(jí)光刻間凈化環(huán)境

Ø 電源及總功率：AC 220V/380V±10% / 50HZ         

Ø 控制儀表;人機(jī)界面

Ø 擱板層數(shù):2層

Ø HMDS控制:可控制HMDS藥液的添加量

Ø 真空泵: 旋片式油泵或進(jìn)口無(wú)油泵

Ø 保護(hù)裝置：緊急停止，HMDS低液位報(bào)警，HMDS自動(dòng)添加，超溫保護(hù)，漏電保護(hù)，過(guò)熱保護(hù)等